
一.采购人名称:浙江大学
二.采购项目名称:电子束曝光机
三.采购组织类型:分散采购自行组织
四.拟采用采购方式:公开招标
五.采购项目概况(内容、用途及简要技术要求)
1. 设备名称:电子束曝光机
2. 数量:1套
3. 技术规格
3.1 组成:
3.1.1.1 主机(电子光学系统、工作台、真空腔体及真空锁、扫描电子成像观察系统)
3.1.1.2 电子枪电源
3.1.1.3 系统控制及电源柜
3.1.1.4 干泵
3.1.1.5 隔震平台
3.1.1.6 不间断供电电源(UPS)
3.1.1.7 控制主机及显示器
3.2 硬件指标:
3.2.1 最大加速电压:30KeV-50KeV
3.2.2 最小束斑:≤2nm
3.2.3 束斑位置稳定性:<=200nm/8hrs
3.2.4 最大使用电子束流:≥20nA
3.2.5 束流稳定:<0.5%/8hrs
3.2.6 扫描频率:≥12MHZ,最小步距≤1.6nm。
3.2.7 标示识别重复性:<±20nm
3.2.8 SEM放大倍数:≥100万倍
3.2.9 样品台配有激光干涉测量定位系统,定位精度:≤1nm
3.2.10 工作台最大移动速度:≥2mm/sec
3.2.11 工作台行程范围:≥100mmx100mm
3.2.12 样品尺寸:直径50mm-直径200mm晶片,5mm-50mm非规整形状样品
3.3 工艺指标
3.3.1 主要功能是电子束直写,可以多层套刻,也可与接触式光刻机配合进行混合光刻(Mix&Match),以便在大尺寸器件上制作微纳精细结构。
3.3.2 最小线宽
3.3.2.1 光刻胶
3.3.2.1.1 线条宽度:≤10nm,线条长度:≥100mm
3.3.2.1.2 光刻胶厚度:≥100nm
3.3.2.1.3 测试样品:4英寸Si晶片
3.3.2.2 金属剥离
3.3.2.2.1 线条宽度:≤20nm,线条长度:≥100mm,
线条间距:≤30nm,线宽均匀性:<15%
3.3.2.2.2 光刻胶厚度:≥100nm
3.3.2.2.3 测试样品:4英寸Si晶片。
3.3.3 拼场/套刻精度
3.3.3.1 线条宽度:≤20nm,线条长度:≥100mm,
3.3.3.1.1 光刻胶厚度:≥100nm
3.3.3.1.2 测试样品:4英寸Si晶片
3.3.3.1.3 拼场/套刻精度:35nm,均值+3σ
3.4 厂家必须提供3.3中涉及的各个参数的详细测量标准和步骤。
4. 标准附件、标准工具及选配件
4.1 标准附件及工具
4.1.1 按标准配置由厂家提供,包括备品备件、消耗品及专用工具。
4.2 选配件
5. 产品配置要求
5.1 电子束曝光机:1套
5.2 软件:在线操作软件1套,离线操作软件≥3套
5.3 操作及安装手册各1套
5.4 维护操作手册和维修电路图各1套
5.5 标准附件及工具:用于3年的备品备件及消耗品。1套专用工具。
6. 验收标准
6.1 参见本章3.技术规格
6.2 设备标准应符合厂家公开的技术文件,验收程序严格遵守厂家提供的公开验收文件,所有内容须现场演示,其结果须在要求范围之内。
7. 运行环境
7.1 房间温度:19~21℃
7.2 温度变化:<±1℃
7.3 温度变化速率:<±0.1℃/H
7.4 相对湿度:40%~60%
7.5 磁场变化:<600nT,0.1~10KHz。
7.6 适用电源:单相,220V~240V,50/60Hz。
7.7 地线:电阻<10Ω
8. 技术服务
8.1 保修期:自仪器安装调试合格,双方签署验收报告之日起的叁年。
8.2 保修期内软硬件出现问题,应在接到用户通知后二十四个小时内给予解决方案,两个工作日内到达用户现场解决问题。重大问题或其它无法立刻解决的问题应在一周内解决或提出明确的解决方案,如因卖方原因不能及时修复,保修期将相应顺延。
8.3 设备供应商提供终身维修,并保证保修期满后不低于十五年的零配件供应。
8.4 仪器到货后,厂家需在接到用户通知后10个工作日内进行安装调试
8.5 提供用户管理人员的现场操作使用及基本维护的免费现场培训,用户使用仪器一段时间后,投标商对用户相关人员进行进一步操作和技术培训。
9. 交货时间:合同生效后6个月内。
10. 其它说明
10.1 对选配功能和选配件进行单独报价,并说明用途。
六.供应商的资格要求
(1)国内具有独立法人资格;(2)有相应的技术力量和经济实力;(3)售后服务能力强;(4)社会信誉好;(5)注册资金50万元人民币(含)以上的供应商均可以参加
七.其它事项
报名时间为今天起7个工作日
报名供应商需提供类似仪器案例及仪器技术指标
联系方式
采购人名称:浙江大学
采购人地点:浙江大学采购中心
联系人:申老师
联系电话:0571-88981325
传真: