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公司名称：
伯东企业（上海）有限公司
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参考价格：
0
元
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发布时间：
2018-06-14
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| 产品描述： |
| KRI 考夫曼离子源 eH 200,系列离子源结合是圆柱式及线性配置的离子枪 (ion source), 这些配置可以整合至多种真空工艺平台, 包含镀膜机, 传送腔体, 卷绕式镀膜机, 磁控溅射机, 连续式镀膜机, 我们提供一套完整的方案包含离子源 (ion source), 电子中和器, 电源供应器（Compact Power Supply）, 流量控制器 (MFC), 等等
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eH 200上海伯东代理考夫曼KRI离子源的详细介绍
KRI Ion Source eH 系列离子源 应用
eH 系列离子源是应用在标准或新型材料工艺, eH 系列产品科技可以在指定能量, 化学反应, 电流密度及投射轨道来产生及控制离子, 由于提供原子等级的细微加工能力, eH 离子源可以有效地以奈米精度来处理薄膜 (thin films) 及表面, 无论是本身密度的浓缩, 应力控制, 光学传输（photonics）, 纯净度, 阻抗, 平滑介面, 附着力改善等等,
KRI 霍尔离子源主要应用
•离子辅助镀(IBAD)
•In-Situ Substrate Preclean (PC)
•Ion Beam Modification of Material Properties (IBM)
•Direct Deposition (DD)
•离子刻蚀 (IBE)
.光学镀膜
一般应用如下:
1. 离子辅助镀膜及电子枪蒸镀
2. 线上式磁控溅射及蒸镀设备预清洗
3. 表面处理
4. 表面硬化层镀膜
5. 磁控溅射辅助镀膜
6. 离子刻蚀 (ion etching)
7. 偏压离子束磁控溅射镀膜
KRI Ion Source eH 系列离子源技术参数:
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Model
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eH 200, eH 200 LEHO
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Cathode / Neutralizer
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Yes
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Anode module
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Yes
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Process gases
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Inert, reactive, organic
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Power controller
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eH Plasma Power Pack
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